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    检测设备和器件制造方法<%=id%>

    > 颁 证 日:
    优 先 权: 2001.9.10 JP 273432/2001
    申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所;株式会社东芝
    地 址: 日本东京
    发 明 (设计)人: 畠山雅规;村上武司;佐竹徹;野路伸治
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
    代 理 人: 蒋世迅
    摘要
      一种检测设备,用于检测样本表面上精细几何图形,其中辐射波束照射到不同于大气的差异环境中放置的样本,并利用传感器检测从该样本上射出的二次电子,其中传感器放置在差异环境之内,处理来自传感器检测信号的处理装置放置在差异环境之外,而传输装置发射来自传感器的检测信号到处理装置。
    主权项
      权利要求书 1.一种检测设备,用于检测样本表面上的精细几何图形,包括: 照射装置,用于照射辐射波束到不同于大气的差异环境中放置的 样本; 传感器; 引导装置,用于引导从样本上射出的二次辐射到传感器; 处理装置,用于处理从传感器输出的检测信号;和 传输装置,用于发射来自传感器的检测信号到处理装置, 其中传感器放置在差异环境之内,处理装置放置在差异环境之外。
         

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