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证 日：
优 先 权：
2001.8.23 JP 252961/2001;2001.8.23 JP 252363/2001
申请(专利权)人：
尼康株式会社
地 址：
日本东京都
发 明 (设计)人：
豊田光纪;谷津修;竹内裕一郎;蛭川茂
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
北京集佳专利商标事务所
代 理 人：
王学强
摘要
一种曝光装置，在不依赖(依存)网线上的微细图案的方向性的情况下，可以最适的照明条件进行曝光。包括一照明光学系统及一投影光学系统。照明光学系统，照明一网线，网线上形成有欲转写的图案。投影光学系统，把网线的图案的像形成在一基板上。且照明光学系统具有一瞳形状形成装置，以在其瞳面或瞳面附近的面上形成4个实质面光源。瞳形状形成装置，把4个实质面光源的纵向位置坐标及横向位置坐标设定成实质不相同，以使经由被转写的光阻图案或经由一工艺所形成的基板图案成为所希望的大小或形状。
主权项
权利要求书
1.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：
一照明光学系统，照明一网线，该网线形成有欲转写的一图案；
以及
一投影光学系统，于一基板上形成该网线的该图案的像，其中
该照明光学系统具有一瞳形状形成装置，以于该照明光学系统的
一瞳面或于该瞳面附近的面上，形成4个实质面光源，且
该瞳形状形成装置，将该4个实质面光源的该瞳面或是该瞳面附
近的面上的一纵向位置坐标及一横向位置坐标设定成实质不相同，以
使经由被转写的一光阻图案或经由一工艺而形成的一基板图案成为
所希望的大小及形状。
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