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分 类 号：
C01B21/083
颁 证 日：
优 先 权：
2000.5.12 JP 139846/2000;2000.9.7 US 60/230,792
申请(专利权)人：
昭和电工株式会社
地 址：
日本东京
发 明 (设计)人：
大野博基;大井敏夫
国 际 申 请：
CT/JP01/03963 2001.5.11
国 际 公 布：
WO01/85603 英 2001.11.15
进入国家日期：
2002.01.11
专利 代理 机构：
北京市中咨律师事务所
代 理 人：
刘金辉;林柏楠
摘要
在稀释气体存在下使F2气体与NH3气体在气相中于80℃或更低的温度下反应，以生产NF3。因此，以良好的安全性、效率和效益生产出NF3。
主权项
权利要求书
1.一种生产三氟化氮的方法，包括使氟气与氨气在气相中反应，
其中该反应在稀释气体存在下于80℃或更低温度下进行。
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