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    单元件技术的电解槽用电化学池<%=id%>


    分 类 号: C25B9/00
    颁 证 日:
    优 先 权: 1999.12.1 DE 19959079.6
    申请(专利权)人: 拜尔公司
    地 址: 德国莱沃库森
    发 明 (设计)人: F·格斯特曼
    国 际 申 请: CT/EP00/11531 2000.11.20
    国 际 公 布: WO01/40549 德 2001.6.7
    进入国家日期: 2002.06.03
    专利 代理 机构: 中国专利代理(香港)有限公司
    代 理 人: 王景朝;谭明胜
    摘要
      本发明涉及一种用于隔膜电解法的单元件技术的电解槽用电化学池。所述池组成如下:至少两个半壳体(8,10),该半壳体围绕其间设置有隔膜(5)的阳极电解液室(16)和阴极室(22);位于阳极电解液室(16)中的阳极(6),而在阴极室(22)中设置有耗氧阴极(4),其中具有以一个在另一个之上的方式排布的许多压力补偿气袋(15);阴极电解液间隙(14)和任选地后室(19),其特征在于,导电支撑元件(7)设置在阳极电解液室(16)中,而支撑元件(3,2,1)的同样互相相对的位置设置在阴极室(22)中。
    主权项
      权利要求书 1、一种用于隔膜电解法的电化学池,其组成如下:至少两个半壳 体(8,10),该半壳体围绕其间设置有隔膜(5)的阳极电解液室(16) 和阴极室(22);位于阳极电解液室(16)中的阳极(6),而在阴极 室(22)中设置有耗氧阴极(4),其中具有以一个在另一个之上的方 式排布的许多压力补偿气袋(15);阴极电解液间隙(14)和任选地 后室(19),其特征在于,导电支撑元件(7)设置在阳极电解液室(16) 中,而支撑元件(3,2,1)的同样互相相对的位置设置在阴极室(22) 中。
         

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