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颁 证 日：
优 先 权：
2001.9.25 JP 292279/2001
申请(专利权)人：
株式会社东芝
地 址：
日本东京都
发 明 (设计)人：
松井功
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代 理 人：
董敏
摘要
一种制造细微颗粒的方法包括以下步骤：从一侧中将含有细微颗粒源材料的反应气体流引入反应器中；然后通过加热在反应气体流中的细微颗粒源材料来使细微颗粒在气相中生长；从几乎与反应气体流对流的另一侧将稀释气流引入反应器；使反应气体流和稀释气体流的流速相对于流动通道的横断面基本上均衡；并且在流速均衡之后通过合并反应气体流和稀释气体流来使这些细微颗粒的生长停止。本发明还涉及一种实施上述方法的设备。
主权项
权利要求书
1.一种制造细微颗粒的方法，包括以下步骤：
将含有细微颗粒源材料的反应气体流从一侧引入反应器中；
然后通过加热反应气体流内的细微颗粒源材料来使细微颗粒在气相
中生长；
从几乎与反应气体流对流的另一侧将稀释气流引入反应器；
使反应气体流和稀释气体流的流速相对于流动通道的横断面基本上
均衡；并且
在流速均衡之后通过合并反应气体流和稀释气体流来使这些细微颗
粒的生长停止。
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