有机-无机杂化纳米抗磨损、刻化保护膜<%=id%>

分类号： C08J7/06
颁证日：
优先权：
申请(专利权)人：胡立江
地址： 150001黑龙江省哈尔滨市哈尔滨工业大学应用化学系408信箱
发明 (设计)人：胡立江
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：沈阳杰克专利事务所
代理人：甄玉荃
摘要
　有机—无机杂化纳米抗磨损、刻化保护膜，用于树脂镜片。该保护膜是按照下述原料配比及方法制得：第一步，利用溶胶—凝胶法水解缩合三甲氧基硅烷类与正硅酸四乙脂的混合物，合成稳定的SiO₂- O无机纳米结构颗粒，此步合成条件：稀释溶剂为四氢呋喃或醇，稀释比例为3∶1；催化剂用甲酸HCOOH和水H₂O，HCOOH∶Si＝3～6，H₂O∶Si＝0.16～3；合成温度为25～70℃；第二步，向反应体系中加入活*联剂和稀释溶剂，稀释比例为3～5∶1；树脂镜片采用浸涂法，固化后可形成网状保护膜。本发明的配方科学，合成方法简单，具有抗磨损、抗刻划性能，可较好地克服现有树脂镜片比较软、容易磨损和被刻划、影响配戴效果等缺点，易于推广。
主权项
　权利要求书 1、一种有机—无机杂化纳米结构的抗磨损、刻化保护膜，其特征在于：有机—无机杂化纳米抗磨损、刻化保护膜是按照下述原料配比及方法制得：第一步，利用溶胶—凝胶法水解缩合三甲氧基硅烷类 [例如：3-(2，3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷，3-(甲基丙烯酰氧) 丙基三甲氧基硅烷，N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷等]与正硅酸四乙脂(占5～20％的重量百分比)的混合物，合成稳定的 SiO2- O(二氧化硅一倍半氧硅烷)无机纳米结构颗粒，此步合成条件：稀释溶剂为四氢呋喃或醇，稀释比例为3∶1；催化剂用甲酸 HCOOH和水H2O，HCOOH∶Si＝3～6，H2O∶Si＝0.16～3；合成温度为25～70℃；第二步，向反应体系中加入活*联剂(己二胺，过氧化苯甲酰，苯基缩水甘油醚等)和稀释溶剂(四氢呋喃或醇)，稀释比例为3～5∶1；树脂镜片采用浸涂法；加温固化，固化温度及时间是：80～150℃固化1～24小时，固化后可形成网状的有机—无机杂化纳米结构保护膜。

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