负压等离子体装置及负压等离子体清洗方法<%=id%>

分类号： 08B11/00;H01L21/306
颁证日：
优先权： 2001.10.18 JP 2001－320472
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社
地址：日本大阪府
发明 (设计)人：笹冈达雄;铃木直树;小林研
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：汪惠民
摘要
　本发明提供了一种可提高生产能力、有效地防止薄膜污染、容易进行薄膜管理的负压等离子体处理装置及方法。该方法是将薄膜基板(2)从等离子体处理装置主体(10)外搬入等离子体处理装置主体内的基板搬入位置(B)；将处于基板搬入位置的薄膜基板搬入处理室(8)内；一边让处理室排气一边导入反应气体，在负压下外加高频电以产生等离子体，进行从薄膜基板除去有机物的等离子体处理；从处理室取出经所述等离子体处理的薄膜基板，使之位于等离子体处理装置主体内的基板搬出位置(C)，将之搬出于等离子体处理装置主体外。
主权项
　权利要求书 1.一种负压等离子体处理装置，其特征在于包括：搬送臂装置(3A、3B)——其保持薄膜基板(2)；和移动装置(4)——其使所述搬送臂装置在所述等离子体处理装置主体(10)外的基板搬入准备位置(A)与所述等离子体处理装置主体内的基板搬入位置(B)之间移动，同时，使所述搬送臂装置在所述等离子体处理装置主体内的基板搬出准备位置(C)与所述等离子体处理装置主体外的基板搬出位置(D)之间移动；以及处理室(8)——其在所述搬送臂装置在所述移动装置(4)驱动下从基板搬入准备位置(A)移动到所述基板搬入位置(B)，被保持在所述搬送臂装置上的所述薄膜基板被搬入后，一边让处理室排气一边导入反应气体，在负压下外加高频电以产生等离子体，进行从所述薄膜基板除去有机物的等离子体处理，同时，经所述等离子体处理的薄膜基板被所述搬送臂装置所保持，从所述基板搬出准备位置(C)搬出于所述基板搬出位置(D)。

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