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分 类 号：
C01B33/12;C01B33/18;C07F7/18;C07F7/12;C09C1/28;C08K3/34;G03G9/08
颁 证 日：
优 先 权：
2001.10.12 DE 10150274.5
申请(专利权)人：
瓦克化学有限公司
地 址：
联邦德国慕尼黑
发 明 (设计)人：
赫伯特·巴特尔;马里奥·海涅曼
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
永新专利商标代理有限公司
代 理 人：
过晓东
摘要
一种用以制备甲硅烷基化硅石的方法，其包括：用由A个通式(I)的单元(R13SiO1/2) (I)与B个通式(IIa-c)的单元(R12SiO2/2)，和/或 (IIa)(R1SiO3/2)，和/或 (IIb)(SiO4/2) (IIc)所组成的有机硅氧烷使硅石甲硅烷基化，该有机硅氧烷的硅原子上可能具有1或2个连接基团-X，且X＝OZ，Z是具有1至4个碳原子的单价烷基、或Z是氢、或X是卤素、或X是乙酰氧基，R1是饱和或单或多不饱和的、单价的、未卤化或卤化的具有1至18个碳原子的烃基，且可相同或不同，该有机硅氧烷可能含有C个≡SiX或＝SiX2基团，且A、B及C的意义是：1≤B≤100或750＜B＜10000，B≥A+C，且，若A+C＝0，则10≤B≤100或750＜B＜10000。
主权项
权利要求书
1.一种用以制备甲硅烷基化硅石的方法，其包括：用由A个通
式(I)的单元
(R13SiO1/2) (I)
与B个通式(IIa-c)的单元
(R12SiO2/2)，和/或 (IIa)
(R1SiO3/2)，和/或 (IIb)
(SiO4/2) (IIc)
所组成的有机硅氧烷使硅石甲硅烷基化，
该有机硅氧烷的硅原子上可能具有1或2个连接基团-X，且
X＝OZ，Z是具有1至4个碳原子的单价烷基、或Z是氢、或
X是卤素、或X是乙酰氧基，R1是饱和或单或多不饱和的、单价的、
未卤化或卤化的具有1至18个碳原子的烃基，且可相同或不同，
该有机硅氧烷可能含有C个≡SiX或＝SiX2基团，且A、B及
C的意义是：
1≤B≤100或750＜B＜10000，
B≥A+C，
且，若A+C＝0，则10≤B≤100或750＜B＜10000。
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