用激光照射对石英晶体进行微调的方法和设备<%=id%>

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颁证日：
优先权：
申请(专利权)人：武汉迈驰科技实业股份有限公司
地址： 430074湖北省武汉市洪山区关南工业园II-2号
发明 (设计)人：徐国钢;阙阳;唐北安;巫志忠
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：武汉开元专利代理有限责任公司
代理人：刘志菊
摘要
　本发明提供一种用激光照射对石英晶体进行微调的方法和设备，是用激光照射石英晶体表面镀银层，使其汽化的方法对石英晶体谐振频率进行微调。用高速频率动态采集系统对石英晶体谐振频率进行采集作为反馈信号，控制激光输出参数。计算机分析系统接收到频率数据后，与设定值进行比较，将频率差值换算成需照射功率的差值，调整脉冲宽度，计算出脉冲个数，控制激光功率输出，直到石英晶体的频率达到要求值。具体通过导线即探针将石英晶体谐振频率传导到高速频率动态采集系统，由此形成闭环控制达到提高微调精度的效果。通过光纤传输激光束到达石英晶体表面，对其进行汽化以达到调节频率的目的。
主权项
　权利要求书 1、一种用激光照射对石英晶体进行微调的方法和设备，包括对石英晶体表面度层的调整，其特征是用激光照射石英晶体表面镀银层，使其汽化的方法对石英晶体谐振频率进行微调。

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