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    研究人员应用纳米刻蚀技术研制出高密度芯片

    [AD340X300]    [生物通讯]研究人员开发出一种可以生产出密度为当前行业标准的十万倍的寡核苷酸芯片的新技术。    来自西北大学纳米技术研究所的研究小组采用的是一种名为“直写蘸水笔式纳米刻蚀工艺(direct-write dip-pen nanolithography)”的技术。其特别之处在于,用原子力显微镜可以直接将寡核苷酸转移到金和二氧化硅表面。    用一种溶液包被在显微镜的探针尖端上,使其带正电并具有亲水性,研究人员就能够精确控制寡核苷酸的流动。    据研究人员介绍,应用这一技术,研究小组研制出了真正的微点--大约50nm长的DNA。以这个分辨率制点可以在100μm×100μm 的DNA芯片上制作出多达100,000个寡核苷酸位点。     西北纳米技术研究所主任Chad Mirkin说,“我们可以在一个Affymetrix型的芯片上快速取到一个标准点,并放入一个完整的基因芯片,盖在这些点中的某一个点上。”     “这有许多优点,如所需的样品尺寸更小、样品用量更低,并
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