飞利浦利用近场技术实现75GB光盘容量<%=id%>

R>　　近场记录大致分为2种方式。一是向没有覆盖层的光盘表面记录膜进行数据写入的方式，二是向位于厚度3～4μm覆盖层下方的记录层进行写入的方式。与前者相比，尽管后者的每层容量会小一些，但对于灰尘、划伤和透镜碰撞具有很高的承受能力，并且具有通过多层化提高容量的优点。
　　飞利浦研究所使用开口数（NA）1.45的物镜（SIL：固态液浸透镜），在覆盖层方式中证实了最高相当于75GB容量的记录与读取。记录膜采用了追记型无机材料Cu/Si。覆盖层厚度为3μm，折射率为1.58。轨道间隔为210nm，信道位长为38nm，比特误码率为6×10-5。
　　今后，将把NA提高到1.6，并通过对读取信号处理方式进行深入研究，实现每层125GB。为了实现多层化，2007年将试制双层光盘进行记录和读取试验。最终希望在每层125GB的4层光盘中实现500GB的记录容量。
　　不使用覆盖层的近场技术，索尼已证实了能够驶向相当于12cm光盘记录112GB的记录容量。

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