|
英国Sheffield大学的一个由Steve Armes博士领导的科研小组，使用一种模拟细胞膜表层的聚合体被覆技术，制造出了新型的高稳定的、无生物排斥的磁纳米点。这种新型的磁纳米点能够提高核磁共振成像（MRI）的灵敏度。他们的工作发表在《Langmuir》杂志的网络预印版上。
科学家们首先把两种成分都存在于细胞膜中的聚合体合并起来。然后他们把这种聚合体加入到用来生产二氧化铁纳米点的标准化学反应物中。最终得到的纳米点的平均半径为34纳米，拥有直径约为9纳米的二氧化铁核心，其排部间距为6到14纳米。
与此对比，没有加入这种聚合体而得到的标准二氧化铁纳米点的平均半径为13纳米，排部间距为9到21纳米。加上聚合物被覆的纳米点的磁性能与标准二氧化铁纳米点类似，但是要稳定得多，且不会被生物体所排斥。
对这种新的纳米点的性能研究表明，两种聚合体都是使纳米点稳定所必不可少的因素。科学家们在文章中注释说，他们已经发展出了能够在这些稳定化的纳米点表面连接目标药剂、甚至药物分子的方法。
参与这项工作还有英国的Durham大学、Biocompatibles UK公司和巴西的Estadual de Campinas大学。
< 1 > < 2 >
|
