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，他们确定防水层和水之间存在一条缝隙，这条缝隙的宽度与水分子直径相当，大约为0.1-0.5纳米。界面的综合密度赤字总计相当于单层水分子的一半。
检测水中本身存在的气体对试验的影响，科学家进一步对不沾水缝隙进行了试验。在所有试验期间，他们始终保持水处于超纯净状态（与自然界中的水不同），并把气体引入细胞中直到饱和。结果显示，气体并没有对不粘水表层界面的水结构造成影响，这个结果与以前的研究报告正好相反。
这是第一次把高能同步加速器制造的X射线用作测量不沾水缝隙的工具。该研究文章的合著者，哈劳尔德·雷切尔特解释道：“一些研究小组使用中子来进行试验，但是中子没有足够的解析度。毕竟，气体非常小而且很难跟踪。”尽管使用了高质量X光束，此次试验仍然是一项挑战：硅片上的防水表层只能在高能X光照射下存在50秒，因此测量不得不在非常短的时间内完成。下一步，该研究小组将制造一些多孔结构并研究水在狭窄的毛孔界面中的属性。雷切尔特宣称，“这些研究将帮助我们更好地了解水在不同环境中的不同表现。尽管我们的世界被水包围着，我们仍然对水在这些环境中的结构有点迷惑。”(雅龙)
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