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    美国正在研究砷化铟镓晶体管技术

    示,流经新晶体管的电流量相当于目前最先进的硅晶体管电流量的2.5倍,而更大的电流量是快速运行的关键。此外,每个砷化铟镓晶体管只有60纳米,相当于当今最好的65纳米硅晶体管技术。 

      英特尔公司晶体管研究和纳米技术主任罗伯特?周认为,德尔?阿拉莫研究小组展示的60纳米砷化铟镓量子井晶体管,在低压(如0.5伏特)下显示出了良好的性能,在该领域的研究中,这一成果是一个十分重要的里程碑。德尔?阿拉莫认为,砷化铟镓晶体管技术目前还处于“幼年”时期,由于砷化铟镓比硅更容易破损,因此它存在着诸多挑战,例如难以大批量生产等。但他同时希望,可满足尺寸要求、利用砷化铟镓的原型设备机可在今后两年内问世,该技术在10年内将会开始快速发展。 

      德尔?阿拉莫乐观地表示:“经过更多的工作,这种半导体技术有望极大地超过硅技术,让我们在未来继续进行微电子革命。” 


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