四大公司联手研发纳米光刻技术

，即在投影镜片与硅片之间注入薄薄一层水，使光束聚焦更加精确。生产光刻设备的荷兰ASML公司可望明年开始销售浸蚀法设备，目前，公司已在奥尼伯对这种设备进行初步测试。

　　但ASML公司说，要达到线宽22纳米，则要采用更先进的远紫外光光刻技术。这种技术不能采用镜片，必须利用一组镜子，使光束更精确聚焦。

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