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德国普朗克微结构物理研究所科学家发明一种生产硅纳米晶体的新工艺，硅纳米晶体常被用于光电子学和信息存储器中。以前为了制作发光二极管及其类似器件，曾利用砷化镓、磷化铱及其他类似化合物，但是几年前已查明，作为生产微芯片主要原料的硅也适合同样的目的。硅具有宏观和纳米水平上的各种光学特性，这说明含有大量微孔的硅片可以完全像砷化镓片一样发光。对硅能很好地应用于光电子学，首先是由于硅材料的廉价和很易获取，其次是由于能够生产辐射装置和单片基芯片。
最近几年研制的以纳米水平加工硅表面的大多数工艺都不能使科学家研制所需品质的辐射装置，直到现在只有德国普朗克微结构物理研究所科学家小组成功地达到了这一目的，该研究所科学家研制出受专利保护的高效廉价“剪裁”4英寸片基硅纳米晶体新工艺。德国科学家在所谓“超细晶格”基础上成功研制出多层结构——由硅化合物非晶体层组成的结构，科学家将其在氮气中加热到1100℃，结果形成超薄氧化硅层。随后它们被分解成纯硅纳米晶体和非晶体SiO2结构。
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